Doorgaan naar hoofdcontent

John Sheil ontwikkelt met Veni simulatiecapaciteit lichtbronnen voor lithografie

John Sheil ontwikkelt met Veni simulatiecapaciteit lichtbronnen voor lithografie

Veni-toekenning voor John Sheil voor het ontwikkelen van simulatiecapaciteit van lichtbronnen voor lithografie.

Lees verder »
Wil je het laatste nieuws in jouw mailbox? Meld je dan aan voor de nieuwsbrief